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"解離與內化"-陳培慧水墨與科技媒合創作個展
1970-01-01 08:00:00

"解離與內化"-陳培慧水墨與科技媒合創作個展

時間:2012年5月29日-6月3日  am9:00-pm5:00
地點:國立臺灣藝術大學 真善美藝廊
    (新北市板橋市大觀路一段59號)
 

現代人的藝術 要用現代人的方式去演譯

水墨轉譯的新語言

*** 歡迎各界共襄盛舉 蒞臨指導 ***

陳培慧 於1970-01-01 08:00:00發表 | | 最新回應 (0) | 上一篇 | 下一篇 |
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